Çinli araştırmacıların, yapay zekâ uygulamalarında kullanılabilecek gelişmiş yarı iletken çiplerin üretiminde önemli rol oynayacak bir teknolojinin prototipini geliştirdiği bildiriliyor. Reuters tarafından aktarılan bilgilere göre, Shenzhen merkezli bir ekip, bu yılın başlarında ilk yerli aşırı ultraviyole (EUV) litografi makinesinin prototipini tamamladı. Kaynaklara göre, söz konusu cihaz şu anda test sürecinde bulunuyor ve bu teknolojinin geliştirilmesinde, daha önce Hollanda merkezli ASML’de görev almış mühendislerin aktif rol oynadığı iddia ediliyor. EUV teknolojisi, modern yarı iletken çip üretiminde temel bir araç olarak kabul ediliyor. Intel ve TSMC gibi önde gelen çip üreticileri, nanometre düzeyindeki hassas üretimler için bu gelişmiş litografi sistemlerini kullanıyor. Çin’in geliştirdiği bu prototip henüz çip üretimi gerçekleştiremiyor olsa da, kaynaklar cihazın EUV ışığını başarıyla oluşturabildiğini belirtiyor. Bu özellik bile, Çin’in teknolojik ilerlemesinde kritik bir aşamaya işaret ediyor. Çin 2028’de üretime başlamayı hedefliyor Çin’in yerli EUV sistemini geliştirme çalışmaları, özellikle ABD’nin son yıllarda uyguladığı teknoloji ihracat kısıtlamalarına karşı bir yanıt niteliği taşıyor. Çinli yetkililer, ülkenin dışa bağımlılığını azaltmak ve yarı iletken üretiminde kendi kendine yetebilen bir ekosistem kurmak için kapsamlı bir yatırım stratejisi izliyor. Reuters’ın aktardığına göre, ülke 2028 yılında yerli EUV teknolojisiyle çip üretimine başlamayı planlıyor. Öte yandan, sektördeki bazı uzmanlar bu hedefin fazlasıyla iyimser olduğunu düşünüyor ve gerçekçi bir tarih … Çin, ABD ambargolarına karşı kendi EUV teknolojisini geliştiriyor haberi ilk önce Teknoblog üzerinde yayımlandı.