동아일보
반도체 핵심 공정에 사용되는 극자외선(EUV) 장비의 국내 도입 절차가 간소화되면서 장비 도입 기간이 최대 25일 단축될 전망이다.산업통상부는 2일 국무회의에서 글로벌 안전기준을 충족한 반도체 제조장비에 대해 고압가스 일반제조시설이 아닌 ‘특정설비’ 기준을 적용하는 내용을 담은 ‘고압가스 안전관리법 시행령’ 일부개정안이 의결됐다고 밝혔다.이번 제도 개선으로 삼성전자와 SK하이닉스 등 국내 반도체 기업들은 EUV 장비 도입 시 검사 등에 소요되는 기간이 기존 34일에서 9일로 줄어들 것으로 예상된다. 해외 공인검사기관의 내압·기밀 검사 비용도 장비당 약 5억원 절감될 전망이다.산업부는 이를 통해 첨단 제조장비를 적기에 도입하고 신속히 가동할 수 있어 국내 반도체 산업의 경쟁력 강화에 도움이 될 것으로 기대했다. 그동안 EUV 장비는 내부에 고압가스 배관과 장치가 포함돼 있다는 이유로 현행법상 ‘고압가스 제조설비’로 분류됐다. 이에 따라 장비를 설치할 때마다 기술검토와 검사를 받
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